特許
J-GLOBAL ID：200903063379691070
対応点探索方法および3次元位置計測方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-304622
公開番号（公開出願番号）：特開2008-123142
出願日： 2006年11月09日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：
【課題】対応点の探索に要する計算量を大幅に減らし、短時間で対応付けの結果を得ることができるようにする。対応点の探索精度を必要に応じて調整可能とする。【解決手段】対象物を異なる視点から見た複数の画像を取り込む。その画像の1つを基準画像、それ以外を参照画像とする。基準画像および参照画像から、カメラパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に沿って、所定幅Wの1次元の画素データ列を切り出す。この切り出した1次元の画素データ列から位相限定相関関数を計算することによって相関ピークの位置Pa1を求め、この相関ピークの位置Pa1から位置ずれ量dを求め、この位置ずれ量dから基準点pに対応する対応点qを探索する。また、入力画像および参照画像中の実際のエピポーラ線の傾きを手動で調整できるように、カメラに姿勢調整機構を設ける。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
画像取込手段を介して、対象物を異なる視点から見た複数の画像を取り込む画像取込ステップと、
前記画像取込手段のパラメータおよび基準点から計算されるエピポーラ線に沿って前記複数の画像より1次元の画素データ列を切り出す画素データ列切出ステップと、
前記複数の画像から切り出された1次元の画素データ列の相関から前記複数の画像中の対応点を探索する対応点探索ステップと、
前記画像取込手段に対して設けられた調整機構を介して前記複数の画像の少なくとも1つについて前記対象物に対する視点を調整する視点調整ステップと
を備えることを特徴とする対応点探索方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G06T1/00 315
, G01B11/00 H
2F065AA04
, 2F065FF04
, 2F065JJ19
, 2F065QQ08
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ31
, 5B057AA20
, 5B057BA02
, 5B057DA20
, 5B057DB03
, 5B057DB09
, 5B057DC30
, 5B057DC32
出願人引用 (1件)
-
立体像計測装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-290634
出願人：山武ハネウエル株式会社
審査官引用 (9件)
全件表示
前のページに戻る
