超精密洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳野隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-318191
公開番号（公開出願番号）：特開2003-117499
出願日： 2001年10月16日
公開日（公表日）： 2003年04月22日
要約：

【要約】【課題】薬剤を一切使わず、従来では不可能であった粒径0.01μmオーダの異物の除去のみならず原子・分子レベルの金属汚染物の除去までが可能な超精密洗浄装置を提供する。【解決手段】超純水を満たした洗浄槽1内に、高圧力の超純水を噴射する一対又は複数対の高圧ノズル2をその間に洗浄領域を設けて鏡像対称位置に配設し、半導体ウエハー等の扁平状の被洗浄物3の縁部を保持して洗浄領域を横切るように被洗浄物を供給し且つ洗浄後回収するウエハー駆動機構4を備え、被洗浄物の両面に対する圧力バランスを制御しつつ、被洗浄物の両面に高圧ノズルから超純水を噴射し、被洗浄物の表面近傍に高圧ノズルから噴射した超純水の高速剪断流を発生させて洗浄し、洗浄槽内の超純水中に溶け込んだ微粒子を濾過器で除去して再度洗浄槽内に供給する循環系7を備えてなる。

請求項（抜粋）：

超純水を満たした洗浄槽内に、高圧力の超純水を洗浄領域に噴射する単又は複数の高圧ノズルを配設し、被洗浄物の縁部を保持して前記洗浄領域を横切るように該被洗浄物を供給し且つ洗浄後回収するウエハー駆動機構を備え、前記被洗浄物の表面近傍に高圧ノズルから噴射した超純水の高速剪断流を発生させて洗浄し、洗浄槽内の超純水中に溶け込んだ微粒子を濾過器で除去して再度洗浄槽内に供給する循環系を備えてなることを特徴とする超精密洗浄装置。

IPC (5件)：

B08B 3/02 , B08B 3/08 , H01L 21/304 642 , H01L 21/304 647 , H01L 21/304 648

FI (5件)：

B08B 3/02 A , B08B 3/08 Z , H01L 21/304 642 F , H01L 21/304 647 Z , H01L 21/304 648 F

Fターム (7件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201BB02 , 3B201BB23 , 3B201BB90 , 3B201BB93 , 3B201CD22

引用特許：

審査官引用 (6件)

基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-169600 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
液中ジェット方式を用いた洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-358253 出願人：日本アビオニクス株式会社
基板の洗浄方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-194180 出願人：株式会社ダン科学, 国際電気アルファ株式会社

全件表示

前のページに戻る