特許
J-GLOBAL ID：200903063695092773
光ディスク原盤の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-017802
公開番号（公開出願番号）：特開平11-203715
出願日： 1998年01月14日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 帯電を防止し、高密度記録がなされた光ディスク原盤の製造方法を提供することにある。【解決手段】 基板1上に導電性を有するフォトレジスト層2を形成する工程と、ソリッドイマージョンレンズを浮上ヘッド3により保持する光学系を用いてレーザ光を照射する工程と、を含むことを特徴とする。この光ディスク原盤の製造方法によれば、フォトレジスト層2が導電性を持つため静電気が発生せず、ソリッドイマージョンレンズが引き付けられたりゴミが付着したりすることがなくなり、安定に記憶が行える。
請求項（抜粋）：
基板上に導電性を有するフォトレジスト層を形成する工程と、ソリッドイマージョンレンズを浮上ヘッドにより保持する光学系を用いてレーザ光を照射する工程と、を含むことを特徴とする光ディスク原盤の製造方法。
IPC (2件)：
G11B 7/135
, G11B 7/26 501
G11B 7/135 A
, G11B 7/26 501
