SiO2粒子とSiC粒子を分離する方法及び装置並びに分離回収SiC

発明者： ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (5件)：清水久義 , 高田健市 , 黒瀬靖久 , 清水義仁 , 木戸利也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-011036
公開番号（公開出願番号）：特開2004-223321
出願日： 2003年01月20日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】SiO2 粒子とSiC粒子を混合含有したスラリー液からSiO2 粒子とSiC粒子を分離する方法及び分離する装置を提供する。【解決手段】SiO2 粒子とSiC粒子を含有したスラリー液に、アルキルスルホン酸及びアルキルスルホン酸ナトリウムからなる群より選ばれる捕収剤と、起泡剤とを配合すると共に、スラリー液をpH2〜4の範囲に調節し、この状態で気泡を上昇させる。捕収剤が吸着したSiC粒子は気泡と共に浮上し、捕収剤が吸着しないSiO2 粒子は沈降するので両者を分離できる。分離容器2に気体入口4と気体出口5を設け、該容器2内に濾過部材3を設けて分離容器内を上部空間9と下部空間10に仕切り、分離容器の上部空間9に連通する位置にスラリー液供給口6を設け、該供給口6より上にSiC回収口8を設け、下部空間10に連通する位置に液出口7を設ける。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

SiO2 粒子とSiC粒子を含有したスラリー液に、アルキルスルホン酸及びアルキルスルホン酸ナトリウムからなる群より選ばれる1種または2種以上の捕収剤と、起泡剤とを配合すると共に、前記スラリー液の水素イオン濃度をpH2.0〜4.0の範囲に調節し、この状態でスラリー液中に微細気泡を上昇させることによって、捕収剤が吸着したSiC粒子を微細気泡とともに浮上させる一方、捕収剤が吸着しないSiO2 粒子を沈降させて、SiO2 粒子とSiC粒子とを分離することを特徴とするSiO2 粒子とSiC粒子を分離する方法。

IPC (8件)：

B03D1/06 , B01F17/38 , B03D1/001 , B03D1/02 , B03D1/10 , B03D1/14 , B03D1/24 , C02F11/12

FI (8件)：

B03D1/06 , B01F17/38 , B03D1/10 , B03D1/14 A , B03D1/24 , C02F11/12 C , B03D1/02 A , B03D1/02 C

Fターム (13件)：

4D059AA30 , 4D059BE02 , 4D059BK30 , 4D059CB30 , 4D059CC07 , 4D059CC10 , 4D059DB04 , 4D059DB08 , 4D059DB31 , 4D077AA01 , 4D077AB02 , 4D077AC07 , 4D077DA02X

引用特許：

審査官引用 (12件)

シリコンの回収方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-096957 出願人：株式会社日平トヤマ
流体研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-123198 出願人：松下電器産業株式会社
特開昭60-065098

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