研磨用組成物およびそれを用いたシリコンウェーハの加工方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田中宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-251507
公開番号（公開出願番号）：特開2000-080349
出願日： 1998年09月04日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【目的】本発明は、例えばシリコンウェーハ等、極めて高い平坦度や平行度が要求される板状の被加工体の表面に鏡面仕上げを施すための、ポリッシング加工に供せられる研磨用組成物に関わるものである。更に詳しくは、重金属汚染が少なく、加工速度と仕上面粗さに優れた研磨用組成物に関する。【構成】酸化珪素微粒子のコロイド状分散液にアルカリ成分と酸成分とを加えた緩衝作用を持つ溶液からなる研磨用組成物において、アルカリ成分が炭素数が1分子当たり12個以下の第4アンモニウムであり、酸成分が炭酸、ホウ酸および珪酸よりなる無機酸のうち少なくとも一つであることを特徴とする研磨用組成物を提供する。砥粒としての酸化珪素の平均粒子径が5nmないし500nmであり、かつその濃度が、研磨用組成物中で1ないし15重量%である。また、第4アンモニウムを形成する4つの置換基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基からなるアルキル基あるいはヒドロキシルエチル基のいずれかである。

請求項（抜粋）：

酸化珪素微粒子のコロイド状分散液にアルカリ成分と酸成分とを加えた緩衝作用を持つ溶液からなる研磨用組成物において、アルカリ成分が炭素数が1分子当たり12個以下の第4アンモニウムであり、酸成分が炭酸、ホウ酸および珪酸よりなる無機酸のうち少なくとも一つであることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (3件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , H01L 21/304 622

FI (5件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 H , C09K 3/14 550 M , C09K 3/14 550 Z , H01L 21/304 622 D

引用特許：

審査官引用 (9件)

研磨剤の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-100537 出願人：株式会社トクヤマ
特開平4-313224
シリコン用研磨液組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-120549 出願人：株式会社神戸製鋼所

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