特許
J-GLOBAL ID：200903064439409871
欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに欠陥検査システム
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小川 勝男
, 田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-160630
公開番号（公開出願番号）：特開2005-338027
出願日： 2004年05月31日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】 パターンの超微細化に対応した高感度欠陥検査方法及びその装置並びに高感度欠陥検査システムを提供する。 【解決手段】 本発明は、試料を薬液洗浄してリンスする洗浄槽330と、試料1と光学系の対物レンズ30の間を液体で満たす液浸手段を備えた欠陥検査装置20と、前記試料を乾燥させる乾燥槽305とを備え、前記洗浄槽330から前記欠陥検査装置の液浸手段を経由して前記乾燥槽に戻すまで試料を液体で浸した状態で搬送する液浸搬送手段156、342を設けた欠陥検査システムである。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
試料の光学像をイメージセンサで検出して試料の欠陥を検出する欠陥検査方法であって、
前記試料と前記光学像を形成する光学系の間を液浸することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/956 A
, H01L21/66 J
2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB07
, 2G051BA10
, 2G051BB03
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051DA08
, 2G051DA17
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EA23
, 4M106AA01
, 4M106CA39
, 4M106CA41
, 4M106DB18
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
