特許
J-GLOBAL ID:200903064585779885

有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木下 實三 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-034611
公開番号(公開出願番号):特開平9-232075
出願日: 1996年02月22日
公開日(公表日): 1997年09月05日
要約:
【要約】【課題】基板を再汚染することなく基板の洗浄および成膜を行うことができる有機EL素子の製造方法および有機EL素子の製造装置を提供すること。【解決手段】真空槽20とは別に洗浄槽30を設け、洗浄槽30において基板11に向かう指向性を有する紫外線またはイオンビームを基板11だけに照射して洗浄した後、移送路40のシャッタ41を開放して基板11を真空槽20へ移送し、真空槽20において基板11上に有機物層を含む薄膜を形成して有機EL素子を製造する。これにより、真空槽20や洗浄槽30に存在する不純物を基板11に付着させることなく基板11の洗浄および成膜を行えるようになり、発光効率が高く、低電圧で長寿命な有機EL素子が得られる。
請求項(抜粋):
基板上に薄膜を形成する真空槽とは別に設けられた洗浄槽で、前記基板に向かう指向性を有する紫外線または前記基板に向かう指向性を有するイオンビームにより前記基板を洗浄した後、前記基板を前記真空槽へ移送し、この真空槽で前記基板上に有機物層を含む薄膜を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/14 ,  C23C 14/02 ,  C23C 14/06
FI (3件):
H05B 33/14 ,  C23C 14/02 Z ,  C23C 14/06 Q
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (1件)

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