X線撮像分析方法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-229180
公開番号（公開出願番号）：特開2000-055842
出願日： 1998年08月13日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】物質の表面や薄膜に存在するさまざまな元素の位置的な分布を高精度、且つ短時間で撮像して、分析することのできる、新しいX線撮像分析方法および装置を提供する。【解決手段】物質の元素から放出される蛍光X線を検出器により撮像し、元素の位置的な分布を得るX線撮像分析方法であって、蛍光X線の角度発散を、物質と検出器との間において角度発散制限手段を用い、且つ検出器および視野・角度発散制限手段を物質にできる限り近接させることにより制限する。

請求項（抜粋）：

物質の元素から放出される蛍光X線を検出器により撮像し、元素の位置的な分布を得るX線撮像分析方法であって、蛍光X線の角度発散を、物質と検出器との間において角度発散制限手段を用い、且つ検出器および角度発散制限手段を物質にできる限り近接させることにより制限するX線撮像分析方法。

IPC (3件)：

G01N 23/223 , G01T 7/00 , G21K 1/06

FI (3件)：

G01N 23/223 , G01T 7/00 B , G21K 1/06 G

Fターム (20件)：

2G001AA01 , 2G001AA04 , 2G001BA04 , 2G001CA01 , 2G001DA03 , 2G001GA13 , 2G001HA12 , 2G001HA13 , 2G001KA01 , 2G001MA05 , 2G088EE30 , 2G088FF03 , 2G088FF18 , 2G088GG03 , 2G088GG21 , 2G088GG28 , 2G088JJ04 , 2G088JJ05 , 2G088JJ13 , 2G088JJ15

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-282243
特開平1-282452
全反射PIXE分析法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-067295 出願人：株式会社島津製作所

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