特許
J-GLOBAL ID:200903064844920117

薄膜の膜応力評価方法と機械的・熱的物性値同定方法とその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鬼頭 敏夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-037793
公開番号(公開出願番号):特開2004-245764
出願日: 2003年02月17日
公開日(公表日): 2004年09月02日
要約:
【課題】コスト、信頼性、再現性、実用性において優れた方法で、基板上に成膜した薄膜の物性値と膜応力の同定を行う膜応力評価方法と薄膜の機械的物性値、熱的物性値の同定方法およびその同定装置を提供する。【解決手段】厚みの異なる2種類の基板1、2の上に同成膜条件、同膜厚tfで薄膜3を形成して積層体4、5を作成し、検出器6により前記2種類の積層体4、5の反り量を常温にて実測し、測定した反り量の値をコンピュータ7に取り込み、計算モジュール8により膜応力σresを評価し、得た膜応力σresを用いてモジュール9により積層体4、5の反り量から薄膜3の弾性率Ef*と線膨張率αfを同定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
厚みの異なる2種類の基板に薄膜を成膜した2種類の積層体を用いて、薄膜の残留応力を評価する工程と薄膜の機械的物性値を同定する工程と薄膜の熱的物性値を同定する工程において、基板の反りの測定値と数値解析による反り計算値が一致するまで反復試行を行うことで、薄膜の応力を評価し、薄膜の機械的物性値、熱的物性値を同定する薄膜の応力評価方法と薄膜の機械的物性値、熱的物性値の同定方法。
IPC (5件):
G01N3/20 ,  G01L1/00 ,  G01M5/00 ,  G01N3/00 ,  G01N25/16
FI (5件):
G01N3/20 ,  G01L1/00 M ,  G01M5/00 ,  G01N3/00 P ,  G01N25/16 Z
Fターム (18件):
2G040AB07 ,  2G040BA27 ,  2G040CA02 ,  2G040CA17 ,  2G040EB02 ,  2G040GA01 ,  2G040HA16 ,  2G061AA07 ,  2G061AB01 ,  2G061BA06 ,  2G061CA16 ,  2G061CB01 ,  2G061DA11 ,  2G061DA12 ,  2G061EA02 ,  2G061EA03 ,  2G061EA10 ,  2G061EC02
引用特許:
審査官引用 (6件)
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