描画装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-360843
公開番号（公開出願番号）：特開2001-174721
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】パターンの形成時間が短く、セルの位置決め精度がよく、かつ斜線図形に対して正確に描画できる描画装置を得る。【解決手段】本発明の描画装置は、光ビームを発する光源(5) と、光ビームを走査するスキャナ(2) と、光ビームが照射される基板(4) とスキャナとの間に設けた集光レンズ(3) とを具備し、スキャナの走査によって光ビームを基板(4) 上に照射し所定の文字、図形若しくは記号等のパターンを描画するもので、光源とスキャナとの間にを設けた独立に傾動する複数の微小ミラーからなるDMD(デジタルマイクロミラーデバイス)(1) と、DMDから反射する画像を切り換える画像切換手段と、DMDの画像を移動させる画像移動手段とを設けた構成にしている。

請求項（抜粋）：

光ビームを発する光源(5) と、前記光ビームを走査するスキャナ(2) と、前記光ビームが照射される基板(4) と前記スキャナ(2) との間に設けた集光レンズ(3) とを具備し、前記光ビームを前記スキャナの走査によって前記基板(4) 上に照射し所定の文字、図形若しくは記号等のパターンを描画する描画装置において、前記光源(5) と前記スキャナ(2) との間に設けた独立に傾動する複数の微小ミラーからなるDMD(デジタルマイクロミラーデバイス)(1) と、前記DMD(1) から反射する画像を切り換える画像切換手段と、前記DMD(1) の画像を移動させる画像移動手段とを設けたことを特徴とする描画装置。

IPC (5件)：

G02B 26/08 , B41J 2/44 , B44C 1/22 , B44C 1/24 , G02B 26/10 104

FI (5件)：

G02B 26/08 E , B44C 1/22 B , B44C 1/24 D , G02B 26/10 104 Z , B41J 3/00 Q

Fターム (12件)：

2C362AA02 , 2C362AA03 , 2C362BA83 , 2C362BA86 , 2C362CB33 , 2C362CB67 , 2H041AA16 , 2H041AB14 , 2H041AZ01 , 2H045AB13 , 2H045BA12 , 2H045DA02

引用特許：

審査官引用 (5件)

パターニング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-211733 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
露光パターン投影デバイス及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-012280 出願人：ソニー株式会社
特開昭62-021220

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