特許

J-GLOBAL ID：200903064906565050

パターンとその形成方法、デバイスとその製造方法、電気光学装置、電子機器及びアクティブマトリクス基板の製造方法

発明者： 平井 利充
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-118838
公開番号（公開出願番号）：特開2004-363561
出願日： 2004年04月14日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】 複数の材料を積層してパターンを形成することによって、一種類の材料では得られなかった機能性をパターンに付与する。【解決手段】 機能液を基板上に配置させてパターンを形成する方法であって、上記基板P上に上記パターンの形成領域に応じたバンクBを形成する工程と、上記バンク間34に第1の機能液X1を配置する工程と、配置された上記第1の機能液X1上に第2の機能液X2を配置する工程と、上記バンク間に積層した上記第1の機能液X1と上記第2の機能液X2とに対して所定の処理を施すことによって複数の材料が積層されてなる上記パターン33を形成する工程とを有する。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

機能液を基板上に配置させてパターンを形成する方法であって、 前記基板上に前記パターンの形成領域に応じたバンクを形成する工程と、 前記バンク間に第1の機能液を配置する工程と、 配置された前記第1の機能液上に第2の機能液を配置する工程と、 前記バンク間に積層した前記第1の機能液と前記第2の機能液とに対して所定の処理を施すことによって複数の材料が積層されてなる前記パターンを形成する工程と を有することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (10件)：

H01L21/3205 ,  B05D5/12 ,  B05D7/00 ,  G09F9/00 ,  H01L21/288 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H05B33/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (12件)：

H01L21/88 B ,  B05D5/12 B ,  B05D7/00 H ,  G09F9/00 338 ,  H01L21/288 Z ,  H05B33/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H01L29/78 627C ,  H01L29/78 617J ,  H01L29/78 616K ,  H01L29/78 612C

Fターム (150件)：

2H092GA25 ,  2H092JA24 ,  2H092JA37 ,  2H092JB24 ,  2H092JB33 ,  2H092MA10 ,  2H092MA12 ,  2H092NA16 ,  2H092NA27 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CC00 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  3K007GA00 ,  4D075AE03 ,  4D075CA22 ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075CB38 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA10 ,  4D075EB13 ,  4D075EB16 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB42 ,  4D075EB49 ,  4D075EC10 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB13 ,  4M104BB14 ,  4M104BB16 ,  4M104BB18 ,  4M104BB28 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD06 ,  4M104DD20 ,  4M104DD22 ,  4M104DD51 ,  4M104DD78 ,  4M104DD80 ,  4M104DD81 ,  4M104GG08 ,  4M104HH01 ,  4M104HH08 ,  4M104HH20 ,  5F033HH00 ,  5F033HH05 ,  5F033HH07 ,  5F033HH11 ,  5F033HH14 ,  5F033HH16 ,  5F033HH17 ,  5F033HH18 ,  5F033HH19 ,  5F033HH20 ,  5F033HH28 ,  5F033HH38 ,  5F033JJ38 ,  5F033KK00 ,  5F033KK07 ,  5F033KK08 ,  5F033KK11 ,  5F033KK13 ,  5F033KK14 ,  5F033KK28 ,  5F033MM01 ,  5F033MM05 ,  5F033MM08 ,  5F033MM19 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ53 ,  5F033QQ73 ,  5F033QQ82 ,  5F033QQ83 ,  5F033QQ91 ,  5F033RR06 ,  5F033RR21 ,  5F033RR22 ,  5F033RR24 ,  5F033VV06 ,  5F033VV15 ,  5F033XX05 ,  5F033XX13 ,  5F033XX20 ,  5F033XX21 ,  5F110AA14 ,  5F110AA26 ,  5F110BB02 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110DD12 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE05 ,  5F110EE15 ,  5F110EE23 ,  5F110EE37 ,  5F110EE42 ,  5F110EE47 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG45 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK22 ,  5F110HK32 ,  5F110HK35 ,  5F110HK41 ,  5F110HL07 ,  5F110HM02 ,  5F110HM19 ,  5F110NN02 ,  5F110NN16 ,  5F110NN22 ,  5F110NN24 ,  5F110NN71 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110QQ09 ,  5G435AA17 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 電気回路、その製造方法および電気回路製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-078149   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 積層型半導体装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-017134   出願人：セイコーエプソン株式会社

審査官引用 (3件)

• パターン形成方法、半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタおよび発光素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-317281   出願人：セイコーエプソン株式会社
• ミクロファブリケーション用基板、その製造方法および像状薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-240760   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 導電膜パターンの形成方法および電気光学装置、電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-197801   出願人：セイコーエプソン株式会社