特許
J-GLOBAL ID：200903064961443184

露光装置及び露光ビーム校正方法

発明者：
砂押 仁

砂押 仁 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-186550
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015416
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 露光ビームをマークに照射して発生する熱によるマーク位置の変動を高精度に検出、補正する手段を提供する。【解決手段】 露光ビーム用マークと、これとは熱的に絶縁されその近傍に配置された別のマークとを描画に先立ち、光学的手段によりそれらの位置関係を計測し、しかる後露光ビーム用マークを露光ビームでマーク検出すると同時に前記2種類のマークの位置関係を再び光学的手段により計測して、事前の計測結果と比較することにより露光ビームによるマークの熱的影響を補正する。
請求項（抜粋）：
試料面の位置を光学的に測定する位置測定手段と、試料を搭載したステージ及びそのステージを移動する手段と、試料面の位置を光または荷電ビームによって測定する位置測定手段と、前記ステージの位置を検出する手段とを備えた、光または荷電ビームを照射して所望パターンを露光する露光装置において、前記ステージ上部に、互いに熱的に絶縁された、光で検出可能なマーク群を備えた第一のマーク基板と、光で検出可能なマーク群及び露光ビームで検出可能なマーク群の両方を備えた第二のマーク基板を設け、描画に先立ち前記第一のマーク基板の光によるマーク位置検出値と前記第二のマーク基板の光によるマーク位置検出値との差(Δx、Δy)を求めて記憶し、露光ビームを前記第二のマーク基板のマークに照射する際に、前記第一のマーク基板の光によるマーク位置検出値と前記第二のマーク基板の光によるマーク位置検出値との差(Δxn、Δyn)を求めて記憶し、記憶しておいた前記差(Δx、Δy)と前記(Δxn、Δyn)の差に基づいて、露光ビームを前記第二のマーク基板のマークに照射して得られるマーク位置を補正する手段を設けたことを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G01B 15/00
FI (3件)：
H01L 21/30 541 K ,  G01B 11/00 B ,  G01B 15/00 B
Fターム (35件)：
2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065AA54 ,  2F065BB13 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065EE05 ,  2F065FF44 ,  2F065FF67 ,  2F065GG01 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ01 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F067AA03 ,  2F067AA13 ,  2F067AA54 ,  2F067BB01 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067EE04 ,  2F067FF06 ,  2F067FF16 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067LL16 ,  2F067RR30 ,  2F067RR40 ,  2F067SS13 ,  5F056BA10 ,  5F056BB10 ,  5F056BC04 ,  5F056CB22 ,  5F056CC05
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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