基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-011345
公開番号（公開出願番号）：特開2002-217267
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2002年08月02日
要約：

【要約】【課題】基板処理装置の設置面積を削減して、さらに基板搬送を安定して行える基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置1は、処理領域Cの中心に配置される搬送ロボットTR1の周囲に処理ユニットが多段に積層されて処理部が形成される。第2の階層D2は、インデクサIDと搬送ロボットTR1を挟んで回転式塗布ユニットSC1,SC2が配置される。それぞれ、その上方の第4の階層D4には、回転式塗布ユニットSC1,SC2の上方に回転式現像ユニットSD1,SD2が積層される。インターフェイス機構部IFの上方には多段熱処理ユニット20,21,22とエッジ露光ユニットEEが水平方向に並んで配置される。

請求項（抜粋）：

基板に対して複数工程からなる処理を施す基板処理装置であって、鉛直方向に沿って延在する搬送経路と、この搬送経路の周囲に配置され、各々基板に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを鉛直方向に積層して構成される複数の処理部と、前記搬送経路を移動するとともに、前記複数の処理部の各処理ユニットに対して前記基板を搬入出する主搬送機構と、を備え、前記処理部に、装置外部との間で基板を受け渡しするインターフェイス機構部を配置したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/30 502 J , H01L 21/30 562

Fターム (34件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA02 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031GA50 , 5F031MA02 , 5F031MA04 , 5F031MA06 , 5F031MA13 , 5F031MA16 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031MA30 , 5F031NA02 , 5F031PA02 , 5F031PA11 , 5F046AA17 , 5F046CD05 , 5F046JA22 , 5F046KA07 , 5F046LA11 , 5F046LA18

引用特許：

審査官引用 (6件)

処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-323704 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-066325 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-256565 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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