特許
J-GLOBAL ID：200903065152739362

電子線転写装置

発明者：
中筋 護

中筋 護 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-031415
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223514
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 高エミッタンス・低輝度の光源を有し、かつレチクルの照射強度の一様な高スループットの電子線転写装置を提供する。【解決手段】 本発明の電子線転写装置は、電子銃3から放出された電子線をコンデンサレンズ9、15と開口19とで調整してレチクル23を照射し、レチクル23で整形された電子線を投影レンズ系27、31で試料面33に結像させて試料面33上にパターンを形成する装置である。電子銃3を温度制限領域で作動させ、電子銃3が作るクロスオーバ7の像をレチクル23の面に結像させることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
電子銃から放出された電子線をコンデンサレンズと開口とで調整してレチクルを照射し、レチクルで整形された電子線を投影レンズ系で試料面に結像させて試料面上にパターンを形成する電子線転写装置であって;該電子銃が作るクロスオーバの像をレチクル面に結像させることを特徴とする電子線転写装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504
FI (3件)：
H01L 21/30 541 R ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 B
引用特許：
審査官引用 (20件)
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