電子ビーム偏向装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-059255
公開番号（公開出願番号）：特開平11-256317
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：

【要約】【課題】電子銃からの電子ビームをターゲット材に当てた際の反射電子の悪影響を抑制しながら電子銃とるつぼが干渉しない配置を得る。【解決手段】電子銃1からの電子ビーム2をターゲット材7方向に偏向させる強磁場を発生させる主偏向コイルと、るつぼ6の電子銃1側にその強磁場と逆方向の弱磁場を形成する補償偏向コイル4を備え、反射電子の上方への到達を阻止すべく、強磁場がかけられた状況下でも、補償偏向コイル4による補償磁場の影響で、電子銃1から補償偏向コイル4上付近までの空間を電子ビーム2が略直進し、るつぼ6上付近で急激にターゲット材7方向へ偏向させることが可能になる。

請求項（抜粋）：

ターゲット材を収容するるつぼと、電子ビームを上向き迎角を付けて出射する電子銃と、前記電子銃から出射された前記電子ビームを前記るつぼ内に向けて偏向させる偏向磁場を発生する主偏向コイルと、平面で見ると前記るつぼを挟む配置にて前記主偏向コイルの両端側に装備されたポールピースとを備えた電子ビーム偏向装置において、平面で見ると、前記るつぼを挟んで前記主偏向コイルの反対側の前記電子銃と前記るつぼとの間に、前記偏向磁場に比べて強度が低くて逆向きの磁場を発生する補償偏向コイルを備えたことを特徴とした電子ビーム偏向装置。

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開昭64-021067
特開平4-160150
多元真空蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-117955 出願人：株式会社安川電機

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