特許
J-GLOBAL ID：200903065269604603
露光用マスクおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-056129
公開番号（公開出願番号）：特開2006-243162
出願日： 2005年03月01日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】 本発明は、エネルギー照射に伴う光触媒の作用を利用してパターンを形成する際に用いられ、特性の異なるパターンを効率的に、また高解像度で形成することが可能な、光触媒含有層を有する露光用マスクを提供することを主目的としている。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層と、前記光触媒含有層上に形成された無機酸化物層と、前記無機酸化物層上にパターン状に形成された遮蔽部とを有することを特徴とする露光用マスクを提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層と、前記光触媒含有層上に形成された無機酸化物層と、前記無機酸化物層上にパターン状に形成された遮蔽部とを有することを特徴とする露光用マスク。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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