ナノ及びマイクロリソグラフィー用の材料組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：伊東忠彦 , 大貫進介 , 伊東忠重
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-515548
公開番号（公開出願番号）：特表2008-501825
出願日： 2005年06月01日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：

液体レジストとして使用される、材料組成物は、単量体部分及び少なくとも一個の陽イオン重合性の官能基を含む第一の成分、並びに、その第一の成分と反応性の且つ少なくとも三個の陽イオン重合性の官能基を含む架橋剤を含む。その材料組成物は、また、陽イオンの光開始剤を含む。UV光に対する露出の際に、その材料組成物は、その第一の成分、その架橋剤、及びその陽イオン性の光開始剤の反応生産物である硬化したレジストフィルムを形成するための硬化を介して、架橋する。物品は、基体の層、及びその材料組成物からその基体の層に形成されたレジスト層を含む。

請求項（抜粋）：

材料組成物であって、単量体部分及び少なくとも一個の陽イオン重合性の官能基を有する第一の成分、該第一の成分と反応性の、且つ、少なくとも三個の陽イオン重合性の官能基を含む架橋剤、並びに、陽イオン性の光開始剤を含む、材料組成物。

IPC (3件)：

C08G 59/20 , H01L 21/027 , C08G 59/68

FI (3件)：

C08G59/20 , H01L21/30 502D , C08G59/68

Fターム (10件)：

4J036AJ01 , 4J036AJ03 , 4J036AJ09 , 4J036AJ21 , 4J036GA22 , 4J036GA23 , 4J036GA24 , 4J036HA02 , 4J036JA09 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (13件)

ホログラム媒体およびプロセス
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-521416 出願人：ポラロイドコーポレイション
陽イオンプロセスにより架橋できるシリコーンをベースとした歯科用組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-573328 出願人：ロディア・シミ
陽イオンプロセスにより架橋できるシリコーンをベースとした歯科用組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-573329 出願人：ロディア・シミ

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引用文献：

審査官引用 (2件)

Reactive polymers:a route to nanoimprint lithography at low temperatures
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