特許

J-GLOBAL ID：200903065330800780

クリーニング方法

発明者： ウイスター,サンダー,フレデリック ,  バニエ,バディム,エヴィジェンエビッチ ,  ヴァン ハーペン,マーテン マリヌス ヨハネス ウィルヘルムス
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-199679
公開番号（公開出願番号）：特開2009-088484
出願日： 2008年08月01日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：

【課題】インプリントテンプレートをクリーニングする方法が提供される。【解決手段】パターン形成されたガラス、クォーツまたは石英ガラスのうちの1つからなるインプリントテンプレート20のコンタミ21をクリーニングする方法であって、パターン形成された表面を還元流体46に露出させることからなる。インプリントテンプレートクリーニング装置は、インプリントテンプレート20をチャンバ40からチューブ43を経て流出する還元流体46に露出させるように構成される。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

インプリントテンプレートを還元流体に露出させること を含む、インプリントテンプレートをクリーニングする方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/00

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/00 Z

Fターム (21件)：

4F202AF01 ,  4F202AG01 ,  4F202AG05 ,  4F202AJ06 ,  4F202AK09 ,  4F202AM13 ,  4F202CA19 ,  4F202CK11 ,  4F202CN01 ,  4F202CN18 ,  4F202CS04 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ06 ,  4F209AM11 ,  4F209AM13 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ20 ,  5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光学素子における蒸着物の除去方法、光学素子の保護方法、デバイス製造方法、光学素子を含む装置、およびリソグラフィ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-289648   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 放電発生器を備えたリソグラフィ装置及びリソグラフィ装置の素子を洗浄する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-249166   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• ラジカル生成装置、および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-037833   出願人：ウシオ電機株式会社
• リソグラフィ装置のためのラジカルクリーニング構成
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-325787   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.