特許
J-GLOBAL ID：200903017022651205
リソグラフィ装置のためのラジカルクリーニング構成
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-325787
公開番号（公開出願番号）：特開2007-165874
出願日： 2006年12月01日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
【課題】EUV光学部品をクリーニングする。【解決手段】コレクタCOは、コレクタCOを二つの特定の体積またはエンクロージャ12、14の間に配置するように、例えばクリーニングコクーンの中に配置される。体積12、14の一方または両方の中で、Hラジカルなどのラジカルが作り出され、ラジカルがコレクタCO中を動くように流束を作り出すために、1〜10Paの間の範囲の圧力領域が用いられる。Hラジカルは体積12から体積14へ移動し、それによって、コレクタCOの壁に衝突し、コレクタCOの壁の例えばSn汚染物質をクリーニングすることができる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
水素ラジカルおよび/またはハロゲン分子を供給することによって光学部品の汚染物質をクリーニングするように構成され、ラジカル/分子の分圧が0.1から10Paの範囲にある、クリーニング構成。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 5/08
H01L21/30 531A
, H01L21/30 503G
, G03F7/20 521
, G02B5/08 Z
2H042DB02
, 2H042DB11
, 2H042DE00
, 5F046DA30
, 5F046GA03
, 5F046GA07
, 5F046GB01
, 5F046GB09
