特許
J-GLOBAL ID：200903065371765565

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
宮城 聡

宮城 聡 について

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金岡 雅

金岡 雅 について

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茂森 和士

茂森 和士 について

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安田 周一

安田 周一 について

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真田 雅和

真田 雅和 について


出願人/特許権者：
株式会社SOKUDO

株式会社SOKUDO について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-237702
公開番号（公開出願番号）：特開2009-071028
出願日： 2007年09月13日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【課題】露光装置において基板に付着した液体による動作不良および処理不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】基板Wの洗浄後、基板Wの一面を覆うようにリンス液の液層Lが形成される。続いて、液供給ノズル650が基板Wの中心部上方から外方に向かって移動する。液供給ノズル650は、基板Wの中心部上方から所定距離移動した時点で一旦停止する。この期間に、遠心力により液層Lが薄層領域内で分断され、液層Lの中心部に乾燥コアCが形成される。その後、液供給ノズル650が再び外方に向かって移動することにより、乾燥コアCを始点としてリンス液が存在しない乾燥領域R1が基板W上で拡大する。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、 基板に処理を行うための処理部と、 前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、 前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方は、 基板の乾燥処理を行う乾燥処理ユニットを含み、 前記乾燥処理ユニットは、 基板を略水平に保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段により保持された基板をその基板に垂直な軸の周りで回転させる回転駆動手段と、 前記基板保持手段により保持された基板上にリンス液を供給するリンス液供給手段と、 回転する基板の中心部から周縁部に連続的にリンス液が供給されるように前記リンス液供給手段を移動させるリンス液供給移動手段とを含み、 前記リンス液供給移動手段は、基板の中心部から所定距離離れた位置にリンス液が供給される状態で前記リンス液供給手段の移動を一時的に停止させることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/304
FI (7件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/30 565 ,  H01L21/30 568 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/304 643A
Fターム (34件)：
5F046LA01 ,  5F046LA14 ,  5F157AA71 ,  5F157AA88 ,  5F157AA92 ,  5F157AB02 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB90 ,  5F157AC02 ,  5F157AC03 ,  5F157AC26 ,  5F157BB13 ,  5F157BB44 ,  5F157BH18 ,  5F157CB04 ,  5F157CB15 ,  5F157CC02 ,  5F157CE03 ,  5F157CE06 ,  5F157CE07 ,  5F157CE24 ,  5F157CE25 ,  5F157CE42 ,  5F157CF22 ,  5F157CF92 ,  5F157DA31 ,  5F157DA41 ,  5F157DB02 ,  5F157DB32 ,  5F157DB51 ,  5F157DC84 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-129817   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (4件)
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