基板処理装置および基板処理方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-216160
公開番号（公開出願番号）：特開2006-310724
出願日： 2005年07月26日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：

【課題】露光装置において基板に付着した液体による動作不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供することである。【解決手段】基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、乾燥/現像処理ブロック12およびインターフェースブロック13を備える。インターフェースブロック13に隣接するように露光装置14が配置される。乾燥/現像処理ブロック12は乾燥処理部95を備える。インターフェースブロック13はインターフェース用搬送機構IFRを備える。露光装置14において基板Wに露光処理が施された後、基板Wはインターフェース用搬送機構IFRにより乾燥処理部95に搬送される。乾燥処理部95において基板Wの洗浄および乾燥が行われる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、基板に処理を行うための処理部と、前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、前記処理部は、基板の乾燥を行う第1の処理ユニットを含み、前記受け渡し部は、前記処理部と前記露光装置との間で基板を搬送する搬送手段を含み、前記搬送手段は、前記露光装置から搬出された基板を前記第1の処理ユニットに搬送することを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , H01L 21/677 , H01L 21/304 , B08B 3/02 , B08B 7/04

FI (8件)：

H01L21/30 562 , H01L21/68 A , H01L21/304 651L , H01L21/304 643C , H01L21/304 643A , B08B3/02 B , B08B3/02 G , B08B7/04 Z

Fターム (46件)：

3B116AA02 , 3B116AA03 , 3B116AB23 , 3B116AB34 , 3B116AB42 , 3B116BB22 , 3B116BB38 , 3B116BB44 , 3B116BB62 , 3B116CA03 , 3B116CC01 , 3B116CC03 , 3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB23 , 3B201AB34 , 3B201AB42 , 3B201BB22 , 3B201BB38 , 3B201BB44 , 3B201BB62 , 3B201BB92 , 3B201BB99 , 3B201CA03 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 5F031CA01 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031CA07 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA09 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031MA27 , 5F031PA02 , 5F046CD05 , 5F046HA03 , 5F046JA07 , 5F046JA15

引用特許：

出願人引用 (2件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-129817 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
国際公開第99/49504号パンフレット

審査官引用 (6件)

液浸式投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-296518 出願人：キヤノン株式会社
露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-059570 出願人：株式会社東芝
レジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-087420 出願人：株式会社東芝

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