特許
J-GLOBAL ID：200903065476983509
薄膜製造装置および光電変換素子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-304008
公開番号（公開出願番号）：特開平11-145060
出願日： 1997年11月06日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】成膜室が高温時にも基板と粘着し難く、脱ガスの少ない、成膜室壁の歪みの影響を受けにくい、また交換が容易なシール部を備えた成膜室を有する薄膜製造装置を提供する。【解決手段】一つの共通真空槽の中に、可撓性基板を搬送する搬送系と、この可撓性基板上に薄膜を成膜する手段を備えた1ないし複数の成膜室を有し、各成膜室は可撓性基板を境界とする開口部を有する2つの成膜部室からなり、各開口部22にはシール部が設けられており、各シール部が基板1を挟んで合致して成膜室と共通真空槽との間が気密となる薄膜製造装置において、前記シール部7は金属またはセラミック等の無機材料からなることとする。
請求項（抜粋）：
一つの共通真空槽の中に、可撓性基板を搬送する搬送系と、この可撓性基板上に薄膜を成膜する手段を備えた1ないし複数の成膜室を有し、各成膜室は可撓性基板を境界とする開口部を有する2つの成膜部室からなり、各開口部にはシール部が設けられており、各シール部が基板を挟んで合致して成膜室と共通真空槽との間が気密となる薄膜製造装置において、前記シール部は金属またはセラミック等の無機材料からなることを特徴とする薄膜製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/205
, H01L 31/04 V
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (1件)
前のページに戻る
