特許

J-GLOBAL ID：200903065505490681

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者： 水谷 一良 ,  川西 安大
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-075494
公開番号（公開出願番号）：特開2006-259136
出願日： 2005年03月16日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】 IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造などに使用される、感度、解像力及びデフォーカスラチィチュード(DOF)に優れた感光性組成物、感光性組成物に用いる化合物及び感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 一般式(I)で表される化合物を含有する。一般式(I)において、 Arは芳香環を表し、置換基として-Q-SO2Ra基もしくは-Q-CORbで表される基を有する。 Rはアルキル基又はアリール基を表す。 Qは酸素又は-N(Ry)-を表す。 Xは、単結合もしくは2価の連結基を表す。 Yはアニオンを示す。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

一般式(I)で表される化合物(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (14件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第6548221号明細書
  

審査官引用 (4件)

• 電子線、EUV又はX線用レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-035456   出願人：富士写真フイルム株式会社
• オニウム塩化合物、感放射線性酸発生剤およびポジ型感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-182089   出願人：JSR株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-346121   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-235949   出願人：富士写真フイルム株式会社