特許

J-GLOBAL ID：200903065847643099

ポリシラザン処理溶剤およびこの溶剤を用いるポリシラザンの処理方法

発明者： 清水 泰雄 ,  鈴木 直
出願人/特許権者： クラリアント ジャパン 株式会社
代理人 (1件)： 鐘尾 宏紀 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-396328
公開番号（公開出願番号）：特開2003-197611
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月11日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】ポリシラザンの溶解性に優れ、下地やポリシラザン塗膜の特性に影響を与えることのないポリシラザン処理溶剤とこの溶剤を用いるポリシラザン処理方法の提供。【解決手段】キシレン、アニソール、デカリン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、リモネン、ヘキサン、オクタン、ノナン、デカン、C8-C11アルカン混合物、C8-C11芳香族炭化水素混合物、C8以上の芳香族炭化水素を5重量%以上、25重量%以下含有する脂肪族/脂環式炭化水素混合物、およびジブチルエーテルからなる群から選ばれる一種または二種以上からなる単一または混合溶剤であって、該溶剤の1ml中に含まれる0.5ミクロン以上の微粒子が50個以下である溶剤。ポリシラザンの処理は、半導体基板にコートされたポリシラザン膜のエッジリンスおよび裏面のリンスがある。また、溶剤の水分含有量は100ppm以下が良い。

請求項（抜粋）：

キシレン、アニソール、デカリン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、リモネン、ヘキサン、オクタン、ノナン、デカン、C8-C11アルカン混合物、C8-C11芳香族炭化水素混合物、C8以上の芳香族炭化水素を5重量%以上、25重量%以下含有する脂肪族/脂環式炭化水素混合物、およびジブチルエーテルからなる群から選ばれる一種または二種以上からなる単一または混合溶剤であって、該溶剤の1ml中に含まれる0.5ミクロン以上の微粒子が50個以下であることを特徴とするポリシラザン処理溶剤。

Fターム (2件)：

5F043AA37 ,  5F043BB25

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 低誘電率シリカ質膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-282987   出願人：東燃株式会社
• 窒化珪素薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-358576   出願人：東燃株式会社
• 低誘電率シリカ質膜の形成方法及び同シリカ質膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-358611   出願人：東燃株式会社
• シリカ質パターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-250172   出願人：東燃株式会社