対象物を検査する方法と装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-593911
公開番号（公開出願番号）：特表2002-535606
出願日： 1999年12月14日
公開日（公表日）： 2002年10月22日
要約：

【要約】本発明は基板と検査装置との間の相対運動の間に検査装置によって基板上の対象物を非接触検査する方法に関する。本方法は、1個以上の対象物を含む基板の少なくとも一部を第1の照射手段によって照射し、前記第1の照射手段によって照射された前記1個以上の対象物の少なくとも1個をピクセル要素の部分別にアドレス可能なマトリックスを有する2次元のマトリックスセンサ上に像形成することによって対象物の高さ情報を含む第1の像を生じさせる段階と、1個以上の対象物を含む基板の一部を第2の照射手段によって照射し、前記第2の照射手段によって照射された前記1個以上の対象物のうちの少なくとも1個を前記センサ手段上に像形成することによって対象物の面積情報を含む第2の像を生じさせる段階と、前記センサ手段によって前記第1の像から対象物の高さ情報を抽出する段階と、前記センサ手段によって前記第2の像から対象物の面積情報を抽出する段階とを含む。本発明はまた前述の方法を実行する装置にも関する。

請求項（抜粋）：

基板と検査装置との間の相対運動の間に検査装置によって基板上の対象物を非接触検査する方法において、 - 1個以上の対象物を含む基板の少なくとも一部を第1の放射手段によって照射し、前記第1の放射手段によって照射された前記1個以上の対象物の少なくとも1個をピクセル要素の部分別にアドレス可能なマトリックスを有する二次元マトリックスセンサ上に像形成することによって対象物の高さ情報を含む第1の像を生じさせる段階と、 - 1個以上の対象物を含む基板の少なくとも一部を第2の放射手段によって照射し、前記第2の放射手段によって照射された前記1個以上の対象物の少なくとも1個を前記センサ手段上に像形成することによって対象物の面積情報を含む第2の像を生じさせる段階と、 - 前記第2のセンサ手段によって前記第1の像から対象物の高さ情報を抽出する段階と、 - 前記第2のセンサ手段によって前記第2の像から対象物の面積情報を抽出する段階とを含むことを特徴とする対象物を非接触検査する方法。

IPC (4件)：

G01B 11/02 , G01N 21/956 , G06T 1/00 305 , H01L 21/52

FI (4件)：

G01B 11/02 H , G01N 21/956 B , G06T 1/00 305 B , H01L 21/52 G

Fターム (49件)：

2F065AA01 , 2F065AA24 , 2F065AA26 , 2F065AA49 , 2F065AA51 , 2F065AA58 , 2F065AA59 , 2F065CC01 , 2F065CC26 , 2F065DD04 , 2F065DD09 , 2F065FF04 , 2F065FF09 , 2F065GG07 , 2F065GG17 , 2F065HH04 , 2F065HH05 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL08 , 2F065LL12 , 2F065LL26 , 2F065LL33 , 2F065QQ24 , 2F065QQ31 , 2F065QQ32 , 2F065QQ34 , 2F065QQ38 , 2G051AA65 , 2G051AB07 , 2G051AB11 , 2G051AB14 , 2G051BA01 , 2G051BA10 , 2G051CA03 , 2G051CB01 , 2G051CD04 , 2G051DA06 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057DA07 , 5B057DA08 , 5B057DB02 , 5B057DB05 , 5B057DB09 , 5B057DC04 , 5B057DC09 , 5B057DC30 , 5F047FA77

引用特許：

審査官引用 (5件)

ワークのバンプ検査方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-291338 出願人：株式会社オーク製作所
半田フィレット部の高さ測定方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-333390 出願人：松下電器産業株式会社
画像情報出力装置および方法、形状測定装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-067206 出願人：東レ株式会社

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