特許
J-GLOBAL ID：200903066040275246
走査露光装置および方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-153692
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329953
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：
【要約】【課題】 露光開始時のフォーカス方向の残留振動の収束時間を短縮し、走査露光の歩留り向上を図る。【解決手段】 レチクル上に描画されたパターンの一部を投影光学系を介してウエハ上にスリット状に投影し、該投影光学系の光軸に対し垂直に前記レチクルとウエハを共に走査することにより前記レチクルのパターンを前記ウエハ上に露光するに際し、前記ウエハ上の露光対象ショット内の走査方向の複数の各位置を前記スリット状の露光光が照明する前にその位置のフォーカスを計測する先読みフォーカス計測を行ない、その先読みフォーカス計測値に基づいてフォーカス制御目標値を算出し、そのフォーカス制御目標値に基づいてウエハの走査方向各位置の表面を所望のフォーカス位置に位置決めする場合に、過去に露光したショットについてそのショットの走査開始点と走査終了点の間におけるフォーカス計測値から得られるフォーカス制御目標値を記憶しておき、露光対象ショットの露光を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶されたフォーカス制御目標値に基づいて設定する。
請求項（抜粋）：
原版上に描画されたパターンの一部を投影光学系を介して感光基板上にスリット状に投影し、該投影光学系の光軸に対し垂直に前記原版と感光基板を共に走査することにより前記原版のパターンを前記感光基板上に露光するに際し、前記感光基板上の露光対象ショット内の走査方向の複数の位置のフォーカスを前記スリット状の露光光がその位置を照明する前に計測する先読みフォーカス計測を行ない、その先読みフォーカス計測値に基づいてフォーカス制御目標値を算出し、そのフォーカス制御目標値に基づいて感光基板の走査方向各位置の表面を所望のフォーカス位置に位置決めするフォーカス制御系を有する走査露光装置において、該フォーカス制御系は、過去に露光したショットについてそのショットの走査開始点と走査終了点の間におけるフォーカス計測値から得られるフォーカス制御目標値を記憶する手段と、露光対象ショットの露光を開始するときのフォーカス制御目標値を前記記憶手段に記憶されたフォーカス制御目標値に基づいて設定する手段とを有することを特徴とする走査露光装置。
FI (3件)：
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 516 Z
, H01L 21/30 526 Z
