着色パターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-163521
公開番号（公開出願番号）：特開平10-339959
出願日： 1997年06月06日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】色汚染のない着色パターンを得ること。【解決手段】感光性着色組成物を基板上に塗布し、前乾燥(プレベーク)し、パターン露光し、現像し、ついで後処理する工程からなり、後処理工程が後乾燥(ポストベーク)処理と紫外線照射処理とからなることを特徴とする着色パターン形成方法。

請求項（抜粋）：

感光性着色組成物を基板上に塗布し、前乾燥(プレベーク)し、パターン露光し、現像し、ついで後処理する工程からなり、後処理工程が後乾燥(ポストベーク)処理と紫外線照射処理とからなることを特徴とする着色パターン形成方法。

IPC (4件)：

G03F 7/40 501 , G02B 5/20 101 , G03F 7/004 505 , C09D 4/02

FI (4件)：

G03F 7/40 501 , G02B 5/20 101 , G03F 7/004 505 , C09D 4/02

引用特許：

審査官引用 (10件)

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