特許

J-GLOBAL ID：200903066153547307

液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 水谷 一良
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-041671
公開番号（公開出願番号）：特開2005-234119
出願日： 2004年02月18日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】 液浸露光によるパターン形成において、現像欠陥が低減され、プロセスウインドウが広いポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)ガラス転移温度が120°C〜180°Cである、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)溶剤を含有する液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)ガラス転移温度が120°C〜180°Cである、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)溶剤を含有する液浸露光用レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R

Fターム (16件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025FA03

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特公昭57-153433号公報
  
• パターン形成方法及びその露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-008136   出願人：株式会社日立製作所
• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (5件)

• 放射線感光材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-276597   出願人：富士通株式会社
• 特開平3-223867
  
• 化学増幅型ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-134879   出願人：エバーライトユーエスエーインコーポレイティッド
• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-108765   出願人：旭硝子株式会社
• 特許第1353225号