特許
J-GLOBAL ID：200903066172489334

洗浄方法、洗浄装置ならびに半導体装置の製造方法およびアクティブマトリックス型表示装置の製造方法

発明者：
速水 直哉

速水 直哉 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-036306
公開番号（公開出願番号）：特開2003-236481
出願日： 2002年02月14日
公開日（公表日）： 2003年08月26日
要約：
【要約】【課題】 被処理物を精密に洗浄することのできる洗浄方法と洗浄装置、ならびに、それを用いた半導体装置の製造方法とアクティブマトリックス型表示装置の製造法を提供すること。【解決手段】 密閉処理室2の内部の被処理物1に対して、オゾンガスを0.1MPaより高い圧力で、0.15MPa以上に加圧した純水に溶解させて生成したオゾン水を加熱した洗浄液に超音波を印加して用いることにより洗浄する。
請求項（抜粋）：
被処理物に対して、オゾンガスを0.1MPaより高い圧力で、0.15MPa以上に加圧した純水に溶解させて生成したオゾン水を加熱した洗浄液に超音波を印加して用いることにより前記被処理物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (5件)：
B08B 3/10 ,  B08B 3/12 ,  G02F 1/13 101 ,  G09F 9/00 338 ,  H01L 21/304 647
FI (5件)：
B08B 3/10 Z ,  B08B 3/12 Z ,  G02F 1/13 101 ,  G09F 9/00 338 ,  H01L 21/304 647 Z
Fターム (25件)：
2H088FA21 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088HA04 ,  2H088HA06 ,  2H088HA08 ,  2H088MA20 ,  3B201AA01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB62 ,  3B201BB82 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201BB98 ,  3B201CD43 ,  5G435AA11 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
審査官引用 (7件)
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