特許
J-GLOBAL ID:200903066425384305
細胞培養基板の製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-042663
公開番号(公開出願番号):特開2005-261432
出願日: 2005年02月18日
公開日(公表日): 2005年09月29日
要約:
【課題】 本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養基板の新たな製造方法を提供することを主目的としている。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材上に、エネルギー照射の際の光触媒の作用により、細胞との接着性を有する細胞接着部と、細胞と接着阻害性を有する細胞接着阻害部とを形成することができる細胞培養パターニング用層を形成し、パターニング用基板とするパターニング用基板形成工程と、 前記細胞培養パターニング用層に、エネルギーを照射し、光触媒の作用により前記細胞接着部と前記細胞接着阻害部とをパターン状に形成するエネルギー照射工程と、 前記パターン状の細胞接着部に対して、選択的に細胞含有液を塗布する部位選択塗布法により細胞接着部上に細胞含有液を塗布する細胞含有液塗布工程と を有することを特徴とする細胞培養基板の製造方法を提供する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材上に、エネルギー照射の際の光触媒の作用により、細胞との接着性を有する細胞接着部と、細胞と接着阻害性を有する細胞接着阻害部とを形成することができる細胞培養パターニング用層を形成し、パターニング用基板とするパターニング用基板形成工程と、
前記細胞培養パターニング用層に、エネルギーを照射し、光触媒の作用により前記細胞接着部と前記細胞接着阻害部とをパターン状に形成するエネルギー照射工程と、
前記パターン状の細胞接着部に対して、選択的に細胞含有液を塗布する部位選択塗布法により細胞接着部上に細胞含有液を塗布する細胞含有液塗布工程と
を有することを特徴とする細胞培養基板の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (17件):
4B029AA01
, 4B029AA09
, 4B029AA21
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029CC05
, 4B029CC08
, 4B029CC13
, 4B029HA05
, 4B065AA90X
, 4B065BC41
, 4B065BC46
, 4B065BD06
, 4B065BD50
, 4B065CA44
, 4B065CA46
, 4B065CA60
引用特許:
出願人引用 (7件)
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特開平2-245181号公報
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特開平3-7576号公報
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細胞培養用基板とその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-357910
出願人:日本電気株式会社
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審査官引用 (6件)
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引用文献:
審査官引用 (4件)
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Japanese Journal of Applied Physics Part 1, 2003, Vol.42, No.5B, p.3098-3101
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第25回日本バイオマテリアル学会大会予稿集, 2003, p.221
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人工臓器, 2003, Vol.32, No.2, S-67
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