特許
J-GLOBAL ID：200903043007206310

パターン形成体の製造方法

発明者：
服部 秀志

服部 秀志 について

, 
小林 弘典

小林 弘典 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-336589
公開番号（公開出願番号）：特開2003-228172
出願日： 2002年11月20日
公開日（公表日）： 2003年08月15日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、かつコスト負荷および環境負荷が小さいパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、基体と、前記基体上に形成され、光触媒の作用により分解除去され、かつ膜自体に機能性を有する機能性薄膜とを有するパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板における前記光触媒含有層と前記機能性薄膜とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記機能性薄膜がパターン状に分解除去されたパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。
請求項（抜粋）：
基体と、前記基体上に形成され、光触媒の作用により分解除去され、かつ膜自体に機能性を有する機能性薄膜とを有するパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板における前記光触媒含有層と前記機能性薄膜とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記機能性薄膜がパターン状に分解除去されたパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (4件)：
G03F 7/20 501 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 9/00 ,  B32B 31/24
FI (4件)：
G03F 7/20 501 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 9/00 Z ,  B32B 31/24
Fターム (25件)：
2H097GA45 ,  2H097LA09 ,  2H097LA20 ,  4F100AG00 ,  4F100AK01 ,  4F100AR00C ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA42 ,  4F100EJ012 ,  4F100EJ152 ,  4F100EJ522 ,  4F100EJ542 ,  4F100GB43 ,  4F100HB40B ,  4F100JC00B ,  4F100JD14B ,  4F100JG01C ,  4F100JL00 ,  4F100JL08 ,  4F100JM03B ,  4F100YY00B
引用特許：
審査官引用 (6件)
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