特許
J-GLOBAL ID：200903066530518970

製造装置、クリーニング方法、および再利用方法

発明者：
山崎 舜平

山崎 舜平 について

, 
村上 雅一

村上 雅一 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-005148
公開番号（公開出願番号）：特開2004-217970
出願日： 2003年01月10日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：
【課題】本発明は、EL材料の利用効率を高めることによって製造コストを削減し、且つ、EL層成膜の均一性やスループットの優れた製造装置の一つである蒸着装置及び蒸着方法を提供する。また、本発明は、不純物混入を避けることが可能な一貫したクローズドシステムを提供することも課題とする。【解決手段】本発明は、基板100を固定し、蒸着ホルダ104を移動させことによって成膜を行う。また、本発明は、蒸着ホルダを成膜室101から設置室103bに移動させた後、蒸着ホルダの部品(ルツボ106、膜厚モニタ105、シャッター)を大気に触れることなく設置する。また、本発明は、蒸着ホルダを成膜室から設置室103bに移動させた後、蒸着ホルダの部品、代表的には膜厚モニタやシャッター等をクリーニングすることで交換頻度を下げ、成膜室内の清浄度を保つことができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
ロード室、該ロード室に連結された搬送室、該搬送室に連結された複数の成膜室、および該成膜室に連結された設置室とを有する成膜装置であって、 前記搬送室は、マスクと基板の位置あわせを行う機能を有し、 前記複数の成膜室は、前記成膜室内を真空にする真空排気処理室と連結され、マスクと基板の位置あわせを行うアライメント手段と、蒸着源と、該蒸着源を加熱する手段とを有し、 前記複数の成膜室のうち、少なくとも2つの成膜室では平行してそれぞれの成膜室に搬入された基板面に蒸着が行われ、 異なるパネルを複数作製することを特徴とする製造装置。
IPC (5件)：
C23C14/56 ,  C23C14/00 ,  C23C16/54 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (5件)：
C23C14/56 G ,  C23C14/00 B ,  C23C16/54 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (25件)：
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BB02 ,  4K029DA01 ,  4K029DA09 ,  4K029DA12 ,  4K029DB14 ,  4K029EA01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030AA09 ,  4K030AA10 ,  4K030AA13 ,  4K030BA28 ,  4K030CA02 ,  4K030CA05 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030CA17 ,  4K030DA06 ,  4K030FA01 ,  4K030FA02 ,  4K030FA10 ,  4K030HA04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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