特許
J-GLOBAL ID：200903066604741668

基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理システム

発明者：
金山 幸司

金山 幸司 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-194037
公開番号（公開出願番号）：特開2007-012997
出願日： 2005年07月01日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：
【課題】 基板の処理不良を十分に防止できる基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理システムを提供することである。【解決手段】 基板処理システム500は、基板処理装置300および洗浄/乾燥装置400を含む。基板処理装置300は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14および第1のインターフェースブロック15を備える。洗浄/乾燥装置400は、洗浄/乾燥処理ブロック16および第2のインターフェースブロック17を備える。第2のインターフェースブロック17に隣接するように露光装置18が配置される。洗浄/乾燥処理ブロック16において露光処理後の基板Wの乾燥処理が行われる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に所定の処理を行う基板処理装置と露光装置との間に配置される基板乾燥装置であって、 前記露光装置による露光処理後に基板の乾燥処理を行う乾燥処理ユニットを含む乾燥処理部と、 前記基板処理装置と前記乾燥処理部との間で基板の受け渡しを行うための第1の受け渡し部と、 前記乾燥処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための第2の受け渡し部とを備えることを特徴とする基板乾燥装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/677 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
H01L21/304 651B ,  H01L21/304 648A ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 568
Fターム (36件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA40 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031HA13 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031LA07 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA04 ,  5F031PA23 ,  5F031PA30 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046DA29 ,  5F046JA22 ,  5F046KA10 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-129817   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (6件)
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