基板処理装置および基板処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲岡耕作 , 川崎実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-093487
公開番号（公開出願番号）：特開2005-191511
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：

【課題】複数種類の処理(とくに洗浄処理)を基板に対して施すことができ、これにより多品種少量生産に良好に対応できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。基板の両面に対して良好な処理(とくに洗浄処理)を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】この基板処理装置は、基板処理部1とインデクサ部2とを有している。基板処理部1のフレーム30には、基板搬送ロボット11が固定されており、これを取り囲むようにユニット配置部31〜34が設けられている。このユニット配置部31〜34には、薬液処理ユニットMP、スクラブ洗浄ユニットSS、ポリマー除去ユニットSR、ベベル洗浄ユニットCBおよび気相洗浄ユニットVPから選択した2種以上の処理ユニットを配置できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板保持回転機構によって基板を保持して回転させるとともに当該基板に薬液ノズルからの薬液を供給して当該基板を処理する薬液処理ユニット、基板保持回転機構によって基板を保持して回転させ、当該基板に純水を供給するとともに、基板表面をスクラブブラシでスクラブするスクラブ洗浄ユニット、基板保持回転機構によって基板を保持して回転させるとともに当該基板にポリマー除去液を供給して当該基板上の残渣物を除去するポリマー除去ユニット、基板保持回転機構によって基板を保持して回転させるとともに当該基板の一方面の全域および周端面を含む領域に処理液を供給し、この領域の不要物を選択的に除去する周端面処理ユニット、ならびに基板保持機構に保持された基板に薬液を含む蒸気またはケミカルガスを含む蒸気を供給して当該基板を処理する気相処理ユニットのうち、少なくとも2種の処理ユニットと、これら少なくとも2種の処理ユニットに対して基板の搬入/搬出を行う基板搬送機構と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (7件)：

H01L21/304 , B05C11/08 , B05C11/10 , B08B1/00 , B08B3/02 , B08B7/04 , H01L21/027

FI (9件)：

H01L21/304 643A , H01L21/304 644B , H01L21/304 648A , B05C11/08 , B05C11/10 , B08B1/00 , B08B3/02 C , B08B7/04 A , H01L21/30 572B

Fターム (46件)：

3B116AA02 , 3B116AA03 , 3B116AB27 , 3B116AB34 , 3B116AB42 , 3B116AB44 , 3B116BA02 , 3B116BA34 , 3B116BB22 , 3B116BB88 , 3B116BB90 , 3B116CC01 , 3B116CC03 , 3B116CD22 , 3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB27 , 3B201AB34 , 3B201AB42 , 3B201AB44 , 3B201BA02 , 3B201BA34 , 3B201BB22 , 3B201BB88 , 3B201BB90 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB95 , 3B201BB96 , 3B201CC01 , 3B201CC13 , 3B201CD22 , 4F042AA02 , 4F042AA06 , 4F042AA07 , 4F042AB00 , 4F042EB09 , 4F042EB13 , 4F042EB18 , 4F042EB21 , 4F042EB24 , 4F042EB25 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046MA05 , 5F046MA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板搬送装置および基板搬送方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-118581 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (4件)

基板洗浄具及び基板洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-020181 出願人：東京エレクトロン株式会社
洗浄処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-302099 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-184441 出願人：東京エレクトロン株式会社

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