特許
J-GLOBAL ID：200903066980313278

曲面形成方法および光学素子

発明者：
梅木 和博

梅木 和博 について


出願人/特許権者：
リコー光学株式会社

リコー光学株式会社 について


代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-344747
公開番号（公開出願番号）：特開2001-158022
出願日： 1999年12月03日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：
【要約】【課題】レジスト層の表面形状の転写を利用した全く新規な曲面形成方法を実現する。【解決手段】支持基板10の表面に、液状樹脂を塗布・硬化させて所望の厚さの転写層12を形成する転写層形成工程と、形成された転写層上に所望の厚さのレジスト層14を形成するレジスト層形成工程と、レジスト層14に所望のレジスト表面形状を形成するレジスト層表面形状形成工程と、所望のレジスト表面形状を形成されたレジスト層14と転写層12とに対して異方性のドライエッチングを行い、レジスト表面形状を転写層12の表面形状として転写するエッチング工程とを有する。
請求項（抜粋）：
支持基板の表面に、液状樹脂を塗布・硬化させて所望の厚さの転写層を形成する転写層形成工程と、形成された転写層上に所望の厚さのレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、上記レジスト層に所望のレジスト表面形状を形成するレジスト層表面形状形成工程と、上記所望のレジスト表面形状を形成されたレジスト層と上記転写層とに対して異方性のドライエッチングを行い、上記レジスト表面形状を転写層の表面形状として転写するエッチング工程とを有することを特徴とする曲面形成方法。
IPC (4件)：
B29C 39/10 ,  B29C 35/08 ,  G03F 7/004 511 ,  B29L 11:00
FI (4件)：
B29C 39/10 ,  B29C 35/08 ,  G03F 7/004 511 ,  B29L 11:00
Fターム (57件)：
2H025AA04 ,  2H025AB14 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025DA20 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA39 ,  4F203AA36 ,  4F203AC05 ,  4F203AD03 ,  4F203AD04 ,  4F203AD05 ,  4F203AD08 ,  4F203AF01 ,  4F203AG03 ,  4F203AG05 ,  4F203AG26 ,  4F203AH73 ,  4F203AH74 ,  4F203AR06 ,  4F203AR20 ,  4F203DA01 ,  4F203DB01 ,  4F203DB11 ,  4F203DB30 ,  4F203DC07 ,  4F203DC08 ,  4F203DF01 ,  4F203DF24 ,  4F203DM12 ,  4F204AA36 ,  4F204AC05 ,  4F204AD03 ,  4F204AD04 ,  4F204AD05 ,  4F204AD08 ,  4F204AF01 ,  4F204AG03 ,  4F204AG05 ,  4F204AG26 ,  4F204AH74 ,  4F204AH75 ,  4F204AR06 ,  4F204AR20 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EB12 ,  4F204EB22 ,  4F204EB29 ,  4F204EF27 ,  4F204EK18 ,  4F204EW01 ,  4F204EW34
引用特許：
審査官引用 (11件)
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