特許
J-GLOBAL ID：200903067049082226

ブラッグ回折格子形成用位相マスク及びそれを用いて製造した光ファイバ

発明者：
綾 淳

綾 淳 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (2件)： 河宮 治 ,  竹内 三喜夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-112891
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300649
出願日： 2004年04月07日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 描画装置の描画パターン位置分解能を越える高精細の格子間隔を持ったブラッグ回折格子の形成を可能にすること。【解決手段】 透光性基板の主面に互いに平行な溝部12aが周期的に配列されてなるブラッグ回折格子形成用の位相マスクであって、透光性基板の溝部形成面を正面から見て、i本目の溝部12a(i)の長手方向におけるパターンエッジが、凹及び/又は凸を形成するよう屈曲した屈曲パターンを繰返した形状を有する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
透光性基板の主面に互いに平行な溝部が周期的に配列されてなるブラッグ回折格子形成用の位相マスクであって、 前記透光性基板の溝部形成面を正面から見て、前記溝部の長手方向におけるパターンエッジの少なくとも1本が、凹及び/又は凸を形成するよう屈曲した屈曲パターンを繰返した形状を有することを特徴とする位相マスク。
IPC (2件)：
G02B6/10 ,  G02B6/00
FI (2件)：
G02B6/10 C ,  G02B6/00 306
Fターム (4件)：
2H038BA24 ,  2H050AC71 ,  2H050AC82 ,  2H050AC84
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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