感光性組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、及びプリント基板

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：廣田浩一 , 流良広 , 松田奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-158389
公開番号（公開出願番号）：特開2007-328090
出願日： 2006年06月07日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：

【課題】青紫色レーザ露光システムに対して高感度であり、保存安定性及びメッキ耐性に優れ、バンプパターン、配線パターンなどの形成に好適な厚肉な膜が得られ、高解像度で高精細なバンプパターン、配線パターンなどの形成に好適な、ネガ型の感光性組成物、感光性フィルム、バンプパターン、配線パターンなどのパターン形成方法、及びプリント基板の提供。【解決手段】フェノール性水酸基含有樹脂、ベンジル基、カルボキシル基及び水酸基を含有する樹脂、酸により架橋する架橋剤、及び波長350〜420nmに対して吸収極大を有する光酸発生剤を含有し、波長405nmにおける感度が、10〜100mJ/cm2であることを特徴とする感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、前記感光性組成物等を用いたパターン形成方法及び該パターン形成方法により形成されるプリント基板である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)フェノール性水酸基含有樹脂、(B)ベンジル基、カルボキシル基及び水酸基を含有する樹脂、(C)酸により架橋する架橋剤、及び(D)波長350〜420nmに対して吸収極大を有する光酸発生剤を含有し、波長405nmにおける感度が、10〜100mJ/cm2であることを特徴とする感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 , G03F 7/004 , H05K 3/00 , H05K 3/18 , H01L 21/60

FI (7件)：

G03F7/038 601 , G03F7/004 512 , G03F7/004 503A , H05K3/00 F , H05K3/18 D , H01L21/92 604S , H01L21/92 604B

Fターム (35件)：

2H025AA01 , 2H025AA07 , 2H025AA08 , 2H025AA10 , 2H025AA13 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CB55 , 2H025CB60 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025EA08 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H025FA43 , 2H025FA48 , 5E343BB67 , 5E343CC63 , 5E343CC65 , 5E343DD43 , 5E343EE17 , 5E343ER16 , 5E343ER18 , 5E343FF07 , 5E343FF12 , 5E343FF16 , 5E343GG03

引用特許：

出願人引用 (4件)

ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-027211 出願人：ジェイエスアール株式会社
感放射線性樹脂組成物、バンプ形成用および配線形成用材料ならびにドライフィルムレジスト
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-209235 出願人：ジェイエスアール株式会社
高感度で高レジスト厚さのi線ホトレジスト用スルホニルオキシム類
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-231201 出願人：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド

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