特許
J-GLOBAL ID：200903067087581473
フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-360756
公開番号（公開出願番号）：特開2000-029220
出願日： 1998年12月18日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【課題】 矩形に近いパターンを与え、また反射防止膜を設けた基板上でも、フォーカスマージンが広く、矩形に近い微細パターンを与えるフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 式(I)、(II)及び (III)(式中、R1 、R2 、R3 、R11、R12、R13、R21、R22及びR23は水素又は炭素数1〜4のアルキルを表し、R14、R15及びR16の一つは脂肪族炭化水素残基を表し、残りは水素若しくは脂肪族炭化水素残基を表すか、又はR14、R15及びR16のうち二つ若しくは三つが一緒になって、それらが結合する炭素原子とともに炭化水素環を形成し、Rは酸の作用により解裂する基を表す)で示される各構造単位を一分子中に有する樹脂を含有するフォトレジスト組成物。特に、酸発生剤と組み合わされる化学増幅型のポジ型フォトレジストとして適当である。
請求項（抜粋）：
下式(I)、(II)及び (III)(式中、R1 、R2 、R3 、R11、R12、R13、R21、R22及びR23は互いに独立に、水素又は炭素数1〜4のアルキルを表し、R14、R15及びR16の一つは脂肪族炭化水素残基を表し、残りは互いに独立に、水素若しくは脂肪族炭化水素残基を表すか、又はR14、R15及びR16のうち二つ若しくは三つが一緒になって、それらが結合する炭素原子とともに炭化水素環を形成し、Rは酸の作用により解裂する基を表す)で示される各構造単位を一分子中に有する樹脂を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (8件)
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