特許
J-GLOBAL ID：200903067274161100

ノルボルナン系含フッ素化合物および感放射線性樹脂組成物

発明者：
千葉 隆

千葉 隆 について

, 
林 明弘

林 明弘 について

, 
下川 努

下川 努 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-275425
公開番号（公開出願番号）：特開2005-035941
出願日： 2003年07月16日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】 ArFエキシマレーザー等に代表される遠紫外線等に感応する化学増幅型レジストの添加剤成分として、放射線に対する透明性、感度、解像度、パターン形状等の基本物性を損なわずに、パターン表面の平滑性に優れ、かつ基板上でのパターン倒れが改善された化学増幅型レジストをもたらしうる新規なノルボルナン系含フッ素化合物、並びに当該化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表される化合物。 【化1】〔式中、R1 およびR2 は水素原子、ヒドロキシル基、(チオ)アルコキシル基等を示し、R3 は水素原子または1価の酸解離性基を示し、nは0または1である。〕 感放射線性樹脂組成物は、前記化合物以外に、(A)酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解性が増大するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される化合物。
IPC (6件)：
C07C31/44 ,  C07C33/44 ,  C07C35/52 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (6件)：
C07C31/44 ,  C07C33/44 ,  C07C35/52 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (18件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CC20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006FC36 ,  4H006FE11 ,  4H006FE12
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特公平2-27660号公報
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-338103   出願人：富士写真フイルム株式会社
審査官引用 (7件)
全件表示
引用文献：
審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM