特許
J-GLOBAL ID：200903084641710711

ポジ型レジスト組成物

発明者：
藤森 亨

藤森 亨 について

, 
河辺 保雅

河辺 保雅 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-000563
公開番号（公開出願番号）：特開2003-167333
出願日： 2002年01月07日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：
【要約】【課題】 ラインエッジラフネスに優れており、パターン倒れが防止され、特に微細なパターンでのフォーカス、露光を変動させてもパターン倒れのない優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(C)塩基性化合物、および(D)少なくとも3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有し、かつ少なくとも一つの環状構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、(C)塩基性化合物、および(D)少なくとも3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有し、かつ少なくとも一つの環状構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F232/00
FI (6件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F232/00 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (41件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AL08P ,  4J100AR09Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA12Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA16Q ,  4J100BA34Q ,  4J100BA58Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (8件)
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