特許
J-GLOBAL ID：200903069026667343

ポジ型レジスト組成物

発明者：
神田 博美

神田 博美 について

, 
水谷 一良

水谷 一良 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-156540
公開番号（公開出願番号）：特開2004-334135
出願日： 2003年06月02日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】200nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ溶剤溶解性、ストリエーションの発生、塗布均一性、ラインエッジラフネス等の改良されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】主鎖にシアノ基を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(A1)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039 ,  C08F220/42 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  C08F220/42 ,  H01L21/30 502R
Fターム (71件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07T ,  4J100AC26T ,  4J100AC27T ,  4J100AC34T ,  4J100AE09T ,  4J100AL26Q ,  4J100AL26R ,  4J100AL26T ,  4J100AM03P ,  4J100AR02S ,  4J100AR02T ,  4J100AR11S ,  4J100AR11T ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA02S ,  4J100BA02T ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA03T ,  4J100BA04P ,  4J100BA05S ,  4J100BA05T ,  4J100BA06T ,  4J100BA11P ,  4J100BA11R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15T ,  4J100BA16P ,  4J100BA16T ,  4J100BA22P ,  4J100BA40P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BB18S ,  4J100BB18T ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC04T ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09T ,  4J100BC12Q ,  4J100BC12R ,  4J100BC12T ,  4J100BC43T ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (6件)
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