特許
J-GLOBAL ID：200903021680801870

ポジ型レジスト組成物

発明者：
青合 利明

青合 利明 について

, 
安波 昭一郎

安波 昭一郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-363338
公開番号（公開出願番号）：特開2002-169287
出願日： 2000年11月29日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：
【要約】【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ塗布性、現像欠陥を満足するポジ型レジスト組成物、更に良好な感度、解像度でパターンを形成し、酸素プラズマ耐性も優れるポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つシリコン基を有する繰り返し構造単位を含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つシリコン基を有する繰り返し構造単位を含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (35件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB06 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002AA031 ,  4J002BD121 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002BQ001 ,  4J002ER028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU118 ,  4J002EU138 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002FD208 ,  4J002FD317 ,  4J002GP03
引用特許：
審査官引用 (13件)
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