特許
J-GLOBAL ID：200903067305612149
位置ずれ計測マーク及び位置ずれ計測方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲垣 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-306777
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133576
出願日： 1998年10月28日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】【課題】 半導体製造工程のリソグラフィー工程において、露光に使用されるステッパーのレンズ収差に起因する下層回路パターンと上層レジストパターンとの位置ずれ量を正確に計測する。【解決手段】 下層回路パターンと上層レジストパターンとの位置ずれを、集積回路内部に配置されているパターン相当の微細パターンにより構成された位置ずれ計測マークX1,Y1,X2,Y2を用いて計測する。位置ずれ計測マークとしては、回路パターン相当のラインアンドスペースパターンからなるものを好適に使用することができる。
請求項（抜粋）：
半導体製造工程のリソグラフィー工程において下層回路パターンと上層レジストパターンとの位置ずれを計測するためのマークであって、集積回路内部に配置されているパターン相当の微細パターンにより構成されていることを特徴とする位置ずれ計測マーク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 522 B
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 W
5F046AA25
, 5F046BA03
, 5F046EA03
, 5F046EA04
, 5F046EA09
, 5F046EB01
, 5F046EB02
, 5F046EC05
, 5F046FA10
