特許
J-GLOBAL ID:200903067306004096

試料断面作製装置の試料遮蔽機構

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 井島 藤治 ,  鮫島 信重
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-319418
公開番号(公開出願番号):特開2009-145050
出願日: 2007年12月11日
公開日(公表日): 2009年07月02日
要約:
【課題】本発明は試料断面作製装置の試料遮蔽機構に関し、熱に弱い試料でも正確な試料断面を作製することができる試料断面作製装置の試料遮蔽機構を提供することを目的としている。【解決手段】イオンビームを用いて試料に断面を形成する試料断面作製装置に用いる試料遮蔽機構であって、イオンビームを遮蔽する第1の遮蔽手段3と、該第1の遮蔽手段3と接着され、その下部面に試料1が密着される第2の遮蔽手段4を設け、前記第1の遮蔽手段3と第2の遮蔽手段4との間に熱を遮断するための熱遮断手段5を設けて構成される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
イオンビームを用いて試料に断面を形成する試料断面作製装置に用いる試料遮蔽機構であって、 イオンビームを遮蔽する第1の遮蔽手段と、 該第1の遮蔽手段と接着され、その下部面に試料が密着される第2の遮蔽手段を設け、 前記第1の遮蔽手段と第2の遮蔽手段との間に熱を遮断するための熱遮断手段を設けることを特徴とする試料断面作製装置の試料遮蔽機構。
IPC (1件):
G01N 1/28
FI (2件):
G01N1/28 G ,  G01N1/28 F
Fターム (3件):
2G052AD32 ,  2G052EC18 ,  2G052EC22
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
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