特許
J-GLOBAL ID：200903016595160358
イオンビームを用いる断面試料作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-074740
公開番号（公開出願番号）：特開2007-248368
出願日： 2006年03月17日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】 イオンビーム照射による熱損傷を避けて、柔らかい試料、熱に弱い試料、吸水性の有る試料、樹脂埋め込みが困難な試料等の断面作製を行うことのできる方法を提供する。【解決手段】 試料3のイオンビームIBにより切削される部分の表面を覆うように試料保護部材(基板10)を配設する。基板10の上面に当接するように遮蔽材4が被せられると共に基板10の下面に当接するように試料3が配置される。基板10にイオンビームIBを照射することにより、基板10と共に試料3の切削部3aを切削する。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
試料の一部を遮蔽材で覆い、当該遮蔽材の端縁部を含めて前記遮蔽材側から前記試料にイオンビームを照射することにより、前記試料の前記遮蔽材に遮蔽されない部分を前記イオンビームによって切削し、切削後に得られる前記試料の断面を観察面として用いるための断面試料作製方法であって、
前記試料のイオンビームにより切削される部分の表面を覆うように試料保護部材を配設し、当該試料保護部材にイオンビームを照射することにより、前記試料保護部材と共に試料を切削するようにした、ことを特徴とする断面試料作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
2G052AD22
, 2G052AD52
, 2G052EC14
, 2G052EC18
, 2G052JA13
, 2G052JA15
, 2G052JA16
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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