特許
J-GLOBAL ID：200903085094012040

試料作製装置

発明者：
長 谷 川 史 憲

長 谷 川 史 憲 について

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吉 岡 忠 則

吉 岡 忠 則 について

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渡 邊 栄 一

渡 邊 栄 一 について

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桑 田 正 彦

桑 田 正 彦 について


出願人/特許権者：
日本電子エンジニアリング株式会社

日本電子エンジニアリング株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-197693
公開番号（公開出願番号）：特開2005-037164
出願日： 2003年07月16日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】所望の断面を有する試料を作製することができる試料作製装置を提供する。【解決手段】図1の試料作製装置においては、試料加工前に、光学顕微鏡15の位置調整と、その光学顕微鏡15を用いた遮蔽材12の位置調整が行われる。その後、位置調整が行われた光学顕微鏡が用いられて試料加工位置が決められる。このため、位置決めされた試料加工位置にイオンビームが正確に照射され、所望の断面を有する電子顕微鏡用試料を作製することができる。また、試料6のイオンエッチングの際には光学顕微鏡15が真空チャンバ外にあるので、イオンエッチングによって試料から飛散した粒子で光学顕微鏡15のレンズが汚れることはない。したがって、試料像の観察などを良好に行うことができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空チャンバに取り付けられ、試料にイオンビームを照射するためのイオンビーム照射手段と、 前記真空チャンバに開閉可能に取り付けられた試料ステージ引出機構と、 前記試料ステージ引出機構が閉じられたときに前記真空チャンバ内に位置するように、前記試料ステージ引出機構に取り付けられた試料ステージと、 前記試料ステージ上に配置され、前記イオンビームの軸に対してほぼ垂直な方向に移動可能な試料位置調節機構と、 前記試料位置調節機構上に配置され、前記試料を保持する試料ホルダと、 前記試料ステージ引出機構上に配置された試料観察手段支持手段と、 前記試料観察手段支持手段に取り付けられた試料観察手段とを備えた試料作製装置であり、 前記試料観察手段支持手段は、前記試料ステージ引出機構が開けられたときに前記試料観察手段を前記試料上に配置できるように構成されている一方、前記試料ステージ引出機構が閉じられたときに前記試料観察手段を前記真空チャンバ外に配置できるように構成されていることを特徴とする試料作製装置。
IPC (4件)：
G01N23/225 ,  G01N1/28 ,  G01N23/04 ,  H01J37/20
FI (5件)：
G01N23/225 ,  G01N23/04 ,  H01J37/20 A ,  H01J37/20 B ,  G01N1/28 F
Fターム (19件)：
2G001AA03 ,  2G001AA05 ,  2G001BA07 ,  2G001BA11 ,  2G001CA03 ,  2G001JA12 ,  2G001RA04 ,  2G001RA20 ,  2G052BA02 ,  2G052DA33 ,  2G052EC14 ,  2G052EC17 ,  2G052GA33 ,  2G052GA34 ,  2G052GA35 ,  2G052JA23 ,  5C001AA01 ,  5C001AA03 ,  5C001DD01
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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