特許
J-GLOBAL ID：200903067324573910

造形物の製造方法

発明者：
増子 英明

増子 英明 について

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工藤 和生

工藤 和生 について

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長谷川 里美

長谷川 里美 について

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伊藤 信幸

伊藤 信幸 について

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吉田 政幸

吉田 政幸 について

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須藤 純一

須藤 純一 について

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青木 俊二

青木 俊二 について

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渡辺 源一

渡辺 源一 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について

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TDK株式会社

TDK株式会社 について


代理人 (4件)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-078799
公開番号（公開出願番号）：特開2005-116999
出願日： 2004年03月18日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【解決手段】本発明の造形物の製造方法は、(I)ペースト層の形成工程、(II)ポジ型レジスト膜の形成工程、(III)ポジ型レジスト膜の露光工程、(IV)ポジ型レジスト膜の現像工程、(V)ペースト層のエッチング工程(第1パターン形成工程)、(VI)レジストパターンの露光工程、必要に応じて(VII)導電体層の形成工程(第2パターン形成工程)、(VIII)レジストパターンの剥離工程、必要に応じて(IX)第1パターンおよび第2パターンの転写工程、および必要に応じて(X)得られた造形物の積層・焼成工程を含むことを特徴とする。 【効果】本発明によれば、異なる種類の無機材料パターンが高寸法精度で微細に加工されている造形物を得ることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも、 (1)第1支持体上に、無機粉体が分散された非感光性ペースト組成物からペースト層を形成する工程と、 (2)前記ペースト層上にポジ型レジストからポジ型レジスト膜を形成する工程と、 (3)前記レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成する工程と、 (4)前記レジスト膜を第1現像液を用いて現像処理してレジストパターンを顕在化させる工程と、 (5)前記レジストパターンを露光する工程と、 (6)前記レジストパターンを第2現像液を用いて剥離する工程と を含む造形物の製造方法であって、 前記工程(4)または(6)において前記ペースト層をエッチング処理してレジストパターンに対応する第1パターンを形成することを特徴とする造形物の製造方法。
IPC (3件)：
H05K3/20 ,  G03F7/40 ,  H01L23/12
FI (3件)：
H05K3/20 C ,  G03F7/40 521 ,  H01L23/12 D
Fターム (39件)：
2H096AA26 ,  2H096BA09 ,  2H096CA05 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096GA13 ,  2H096HA03 ,  2H096HA12 ,  2H096HA14 ,  2H096HA15 ,  2H096HA28 ,  2H096JA04 ,  2H096LA02 ,  5E343AA23 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB27 ,  5E343BB28 ,  5E343BB34 ,  5E343BB43 ,  5E343BB44 ,  5E343BB45 ,  5E343BB48 ,  5E343BB49 ,  5E343BB57 ,  5E343BB72 ,  5E343BB75 ,  5E343BB76 ,  5E343CC62 ,  5E343DD03 ,  5E343DD56 ,  5E343DD63 ,  5E343DD64 ,  5E343ER13 ,  5E343ER18 ,  5E343GG08 ,  5E343GG11
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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