特許
J-GLOBAL ID：200903067471859551

静電チャック

発明者：
西本 伸也

西本 伸也 について

, 
中山 博之

中山 博之 について

, 
木村 英利

木村 英利 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-351448
公開番号（公開出願番号）：特開2005-191561
出願日： 2004年12月03日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
【課題】残留電荷による被吸着基板の跳ね上げがなく、耐プラズマ性及び耐磨耗性を高めることができるとともに、被吸着基板前面の面内温度を、所定の温度あるいは温度分布に速やか且つ均一に制御することができる静電チャックを提供する。【解決手段】静電気力を使用してウエハWを吸着する静電チャック16であって、静電チャック16は、ウエハWと接触する複数の突起部16Cを有し、且つ、突起部16Cを、1〜2μmの平均粒径を有するアルミナ結晶粒子を含むセラミック誘電体16Aによって形成すると共に、突起部16CのウエハWとの接触面を粒径に依存する表面粗度のRa0.2〜0.3μmに形成する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
静電気力を使用して被吸着基板を吸着する静電チャックであって、上記静電チャックは、上記被吸着基板と接触する複数の突起部を有し、且つ、上記突起部を、所定の粒径を有する結晶粒子を含むセラミック誘電体によって形成すると共に、上記突起部の上記被吸着基板との接触面を上記粒径に依存する表面粗度に形成することを特徴とする静電チャック。
IPC (3件)：
H01L21/68 ,  H01L21/3065 ,  H02N13/00
FI (3件)：
H01L21/68 R ,  H02N13/00 D ,  H01L21/302 101G
Fターム (13件)：
5F004AA06 ,  5F004AA16 ,  5F004BB22 ,  5F004BB29 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA08 ,  5F031HA16 ,  5F031HA33 ,  5F031HA39 ,  5F031NA05 ,  5F031PA11
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特許第3348140号公報
  • 静電チャックおよび処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-145507   出願人：東陶機器株式会社, 日本真空技術株式会社
審査官引用 (5件)
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