静電チャックおよび処理装置

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出願人/特許権者： ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-145507
公開番号（公開出願番号）：特開2000-332091
出願日： 1999年05月25日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】従来の静電チャックは導体、半導体しか吸着できなかったため被処理体が電気絶縁性の場合、吸着固定することができずプロセスの高精度な温度管理は不可能であった。そこで、ガラス基板などの絶縁性基板を静電吸着することができる静電チャック、その静電チャックを用いた絶縁性基板加熱加熱冷却装置および絶縁性基板の温度制御方法を提供する。【解決手段】絶縁性基板の温度制御方法、静電チャックを構成する誘電体の形状、物性、電極の形状を規定し絶縁性基板吸着用静電チャックを開示した。前記静電チャックに加熱冷却用のプレート、ガス供給配管、温度制御システムを規定し絶縁性基板加熱冷却装置を開示した。更に前記絶縁性基板加熱冷却装置を組み込んだ絶縁性基板処理装置を開示した。

請求項（抜粋）：

一方の面が絶縁体基板を吸着する吸着面とし、もう一方の面に複数の電極が設けられた誘電体基板と、該誘電体基板を固定する絶縁性支持基盤と、該絶縁性支持基盤に設けられた複数の導電性端子と、前記誘電体基板に設けられた電極と、前記導電性端子を電気的に接続する手段と、からなる絶縁性基板吸着用静電チャック。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , B23Q 3/15

FI (2件)：

H01L 21/68 R , B23Q 3/15 D

Fターム (11件)：

3C016GA10 , 5F031HA02 , 5F031HA08 , 5F031HA10 , 5F031HA17 , 5F031HA18 , 5F031HA38 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031MA32 , 5F031PA26

引用特許：

審査官引用 (14件)

静電吸着装置および静電吸着方法、ならびにそれを用いた処理装置および処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-289236 出願人：東京エレクトロン株式会社
静電チャック
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-019344 出願人：京セラ株式会社
真空処理装置における誘電性加工物の静電クランプ方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-513742 出願人：ラムリサーチコーポレーション

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