特許
J-GLOBAL ID:200903067662473394

窒化物半導体レーザ素子

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-044176
公開番号(公開出願番号):特開平10-242581
出願日: 1997年02月27日
公開日(公表日): 1998年09月11日
要約:
【要約】【目的】 連続発振して、長寿命を保持できる新規な窒化物半導体の構造を提供する。【構成】 基板(1)上部に、n型窒化物半導体層(2)と、活性層(3)と、p型窒化物半導体層(4)とを順に有し、そのp型窒化物半導体層の一部にリッジストライプ(4’)が形成されてなる窒化物半導体レーザ素子であって、前記p型窒化物半導体層の一部に形成されたリッジストライプ幅の中央線(a)が、基板に向かう鉛直方向で、活性層幅の中央線(b)とずれていることにより、リッジストライプ部の結晶が壊れにくくなるので、素子寿命が向上する。
請求項(抜粋):
基板(1)上部に、n型窒化物半導体層(2)と、活性層(3)と、p型窒化物半導体層(4)とを順に有し、そのp型窒化物半導体層の一部にリッジストライプ(4’)が形成されてなる窒化物半導体レーザ素子であって、前記p型窒化物半導体層の一部に形成されたリッジストライプ幅の中央線(a)が、基板に向かう鉛直方向で、活性層幅の中央線(b)とずれていることを特徴とする窒化物半導体レーザ素子。
IPC (2件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00
FI (2件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00 C
引用特許:
審査官引用 (5件)
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